正在加载...
系统目前无法执行此操作,请稍后再试。
我的个人学术档案
我的图书馆
统计指标
设置
登录
查看文章
Сергій Теслюк / Serhii Tesliuk
Вплив хімічної обробки на шорсткість поверхні кремнієвих пластин
作者
СІ Теслюк
发表日期
2020
出版商
ХНУРЕ
简介
This article discusses the effect of chemical treatment on the roughness of a silicon wafer surface.
学术搜索中的文章
Вплив хімічної обробки на шорсткість поверхні кремнієвих пластин
СІ Теслюк - 2020
相关文章
所有 2 个版本
关于学术搜索
Google 搜索帮助