Параметры плазмы и механизмы травления металлов и полупроводников в хлороводороде АМ Ефремов, СА Пивоваренок, ВИ Светцов Микроэлектроника 38 (3), 163-175, 2009 | 27 | 2009 |
Интенсивности излучения и концентрации активных частиц в плазме тлеющего разряда в смесях хлористого водорода с аргоном и гелием ДБ Мурин, АМ Ефремов, ВИ Светцов, СА Пивоваренок, АА Овцын, ... Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология 56 (4), 29-32, 2013 | 16 | 2013 |
Влияние состава смеси на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы – и – СА Пивоваренок, АВ Дунаев, ДБ Мурин, АМ Ефремов, ВИ Светцов Теплофизика высоких температур 49 (4), 509-512, 2011 | 14 | 2011 |
Интенсивности излучения и концентрации нейтральных частиц в плазме тлеющего разряда постоянного тока в смесях HCl-H 2 и hcl-o 2 ДБ Мурин, АМ Ефремов, ВИ Светцов, СА Пивоваренок, ЕМ Годнев Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология 56 (8), 41-44, 2013 | 13 | 2013 |
Электрофизические параметры и эмиссионные спектры плазмы тлеющего разряда в хлористом водороде СА Пивоваренок, АВ Дунаев, ДБ Мурин, АМ Ефремов, ВИ Светцов Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология 54 …, 2011 | 13 | 2011 |
ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ, КОНЦЕНТРАЦИИ АКТИВНЫХ ЧАСТИЦ И КИНЕТИКА ТРАВЛЕНИЯ В СМЕСИ C4F8+Ar АМ Ефремов, ДБ Мурин, КХ Квон Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Seriya Khimiya i Khimicheskaya …, 2019 | 7 | 2019 |
Исследование поверхности GaAs после травления в плазме высокочастотного и тлеющего разрядов методом атомно-силовой микроскопии АВ Дунаев, ДБ Мурин, СА Пивоваренок Физика и техника полупроводников 50 (2), 167-170, 2016 | 7 | 2016 |
ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ И КИНЕТИКА АКТИВНЫХ ЧАСТИЦ В СМЕСИ CF4+C4F8+Ar АМ Ефремов, ДБ Мурин, КХ Квон Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Seriya Khimiya i Khimicheskaya …, 2018 | 6 | 2018 |
Параметры плазмы и кинетика активных частиц в смесях CF4 (CHF3)+ Ar переменного начального состава АМ Ефремов, ДБ Мурин Микроэлектроника 47 (6), 414-423, 2018 | 6 | 2018 |
КИНЕТИКА И РЕЖИМЫ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ GaAs В УСЛОВИЯХ ИНДУКЦИОННОГО ВЧ РАЗРЯДА В CF2Cl2 АМ Ефремов, ДБ Мурин, АЕ Левенцов Микроэлектроника 43 (6), 429-429, 2014 | 6 | 2014 |
Кинетика взаимодействия высокочастотного разряда CCl2F2 с арсенидом галлия СА Пивоваренок, АВ Дунаев, ДБ Мурин Микроэлектроника 45 (5), 374-378, 2016 | 5 | 2016 |
Электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трихлорида бора ДБ Мурин, АВ Дунаев Микроэлектроника 47 (2), 106-114, 2018 | 4 | 2018 |
Влияние состава смеси на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы дифтордихлорметана с кислородом и гелием СА Пивоваренок, ПИ Бакшина Химия высоких энергий 55 (3), 231-236, 2021 | 3 | 2021 |
Особенности кинетики объемных и гетерогенных процессов в плазме смесей CHF3 + Ar и C4F8 + Ar ДБ Мурин, АМ Ефремов Микроэлектроника 48 (2), 125-133, 2019 | 3 | 2019 |
Электрофизические параметры плазмы бинарных смесей HCl+ Ar, He, H2, O2 и Cl2 АМ Ефремов, ДБ Мурин Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология 58 (4), 14-18, 2015 | 3 | 2015 |
КИНЕТИКА И КОНЦЕНТРАЦИИ АТОМОВ ХЛОРА В ПЛАЗМЕ СМЕСЕЙ HСl Ar АМ Ефремов, АВ Юдина, ДБ Мурин, ОС Дементьев, ВИ Светцов Химия высоких энергий 47 (2), 147-147, 2013 | 3 | 2013 |
Кинетика травления меди в ВЧ-разряде фреона R-12 АВ Дунаев, ДБ Мурин Микроэлектроника 46 (4), 284-289, 2017 | 2 | 2017 |
Электрофизические параметры и состав плазмы в смесях HCl с инертными (Ar, He) и молекулярными (H2, Cl2, O2) газами ДБ Мурин | 2 | 2015 |
Электрофизические параметры и спектры излучения тлеющего разряда постоянного тока в среде фреона R-23 ДБ Мурин, СА Пивоваренок, АА Малюгин, АВ Бобылев Микроэлектроника 51 (3), 212-217, 2022 | 1 | 2022 |
Сравнение спектрального и термоэлектрического методов определения температуры газа в плазме СА Пивоваренок, АВ Горбатов, ДБ Мурин АКТУАЛЬНЫЕ ВОПРОСЫ ЕСТЕСТВОЗНАНИЯ, 95-99, 2021 | 1 | 2021 |