Stress-induced trench narrowing in Cu interconnect of sub-20 nm node: FEM simulation
The trench narrowing at sub-20 nm BEOL process has been reproduced using a FEM
simulation. The trench narrowing can be observed under the conditions of both the high …
simulation. The trench narrowing can be observed under the conditions of both the high …
[图书][B] Collective instability of micro-and nanoscale structures
Z Chen - 2012 - search.proquest.com
Engineering objects or systems with a very small size in dimension can have strikingly
different mechanical properties from their bulk counterparts found in our everyday lives …
different mechanical properties from their bulk counterparts found in our everyday lives …
分子動力学法を用いた半導体微細パターン材のアモルファスシリコン層における酸化膜形成解析と真性応力評価
田中展， 井上優， 高本聡， 波田野明日可， 泉聡志 - 材料, 2016 - jstage.jst.go.jp
抄録 The intrinsic stress at hetero interface is one of key factors to induce the structural
instability of micropatterning in semiconductor devices, and it is essential to quantitatively …
instability of micropatterning in semiconductor devices, and it is essential to quantitatively …
[PDF][PDF] 荷重を受ける1 次元ナノ構造体の機械的・機能的不安定性に関する原子論的研究
佐藤誠修 - (No Title), 2019 - repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp
ナノ構造とは, 構造や組織がナノメートルサイズで制御された構造体である. ナノ構造のうち,
フラーレンや量子ドットなど全方向ナノサイズのものを 0 次元ナノ構造, カーボンナノチューブや …
フラーレンや量子ドットなど全方向ナノサイズのものを 0 次元ナノ構造, カーボンナノチューブや …
真性圧縮応力を有する二層構造のエッチング誘起うねり座屈解析
杉浦順哉， 奥村大， 田中展 - 東海支部総会講演会講演論文集2018.67, 2018 - jstage.jst.go.jp
1. 緒 言半導体素子の微細化は, 集積度向上, 高速化, 省電力化, 低価格化に直結するため,
非常に重要である. 半導体素子の微細パターン構造は, 次のような手順で作成される. まず …
非常に重要である. 半導体素子の微細パターン構造は, 次のような手順で作成される. まず …
水素化アモルファスシリコンの表面酸化起因真性応力の分子動力学解析
田村陽平， 高本聡， 今泉俊介， 齋藤玲子， 伊藤祥代… - 材料, 2017 - jstage.jst.go.jp
抄録 It was reported that the lack of the structural stability of semiconductor silicon micro-
pattern induced the lateral undulation buckling. Our previous report revealed that the …
pattern induced the lateral undulation buckling. Our previous report revealed that the …
微細パターン構造のうねり座屈に及ぼす板厚と真性応力の影響
杉浦順哉， 奥村大， 田中展 - 計算力学講演会講演論文集2017.30, 2017 - jstage.jst.go.jp
1. 緒 言半導体素子の微細化は, 集積度向上, 高速化, 省電力化, 低価格化に直結するため,
非常に重要である. 半導体素子の微細パターン構造は, 次のような手順で作成される. まず …
非常に重要である. 半導体素子の微細パターン構造は, 次のような手順で作成される. まず …
微細パターン構造のうねり座屈解析におけるエッチングプロセスの影響
杉浦順哉， 奥村大， 田中展 - 計算力学講演会講演論文集2016.29, 2016 - jstage.jst.go.jp
1. 緒 言半導体素子の微細化は, 集積度向上, 高速化, 省電力化, 低価格化に直結するため,
非常に重要である. 半導体素子の微細パターン構造は, 次のような手順で作成される. まず …
非常に重要である. 半導体素子の微細パターン構造は, 次のような手順で作成される. まず …
微細パターン形状の座屈不良に及ぼす寸法ばらつきの影響度解析
宇野澤圭佑， 伊藤祥代， 鈴木啓之 - 応用物理学会学術講演会講演予稿 …, 2014 - jstage.jst.go.jp
18p-E14-21 Page 1 微細パターン形状の座屈不良に及ぼす寸法ばらつきの影響度解析 Effect
Analysis of Size Fluctuation of the Fine Line-patterns Buckling 東芝生産技術センター,○宇野澤 …
Analysis of Size Fluctuation of the Fine Line-patterns Buckling 東芝生産技術センター,○宇野澤 …
[PDF][PDF] 指導教員泉聡志准教授110203 シーロンチュン
半導体の微細素子構造の面外座屈… - Citeseer
The importance of semiconductors in human lives is more often than not left unappreciated.
Semiconductor enables our computers, smart phones, medical systems and many other …
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