Рассмотрены и обобщены результаты исследований и разработок в области формирования контактно-барьерных структур в изделиях субмикронной электроники и …
ВА Пилипенко, АА Сергейчик… - Приборы и методы …, 2024 - cyberleninka.ru
На сегодня важной задачей при создании современных изделий микроэлектроники является устранение на поверхности пластин механически нарушенного слоя. Быстрая …
Н Вилья, ДА Голосов, СН Мельников, ТД Нгуен… - 2020 - libeldoc.bsuir.by
В результате исследований процессов реактивного магнетронного распыления Ta мишени в среде Ar/O2 рабочих газов установлено, что формирование диэлектрических …
В данной статье приведены основные конструктивные особенности магнетронной системы, влияющие на скорость и качество распыления, способствуя увеличению …
При помощи численного моделирования установлены значения технологических параметров, обеспечивающих эффективную двухлучевую лазерную очистку кварцевого …
Контроль технологических этапов формирования изделий полупроводниковой техники может производится посредством анализа комплекта полученных изображений …
Путем экспериментальных исследований получен процесс селективного реактивно- ионного травления нитрида кремния к поликристаллическому кремнию, позволяющий …
Проведена оптимизация параметров резки силикатного стекла потоком горячего воздуха с использованием генетического алгоритма MOGA в модуле DesignXplorer …