Спектроскопическая система контроля расхода газов и содержания примесей в процессе магнетронного осаждения пленок
АП Бурмаков, ВН Кулешов - Журнал прикладной спектроскопии, 2007 - elibrary.ru
Предложена система автоматизированного управления расходом кислорода в
вакуумно-плазменных магнетронных процессах осаждения оксидов с одновременным …
вакуумно-плазменных магнетронных процессах осаждения оксидов с одновременным …
Интенсификация процессов формирования твердотельных структур концентрированными потоками энергии
В монографии обобщены результаты научных исследований и технических
разработок в области атомно-молекулярных и плазмодинамических процессов для …
разработок в области атомно-молекулярных и плазмодинамических процессов для …
Высоко адгезионная металлизация керамики пленками оксида титана изменяющегося по толщине состава
АЛ Бурмаков, ВН Кулешов - 2007 - elib.bsu.by
Ceramic metallization by magnetron sputtered titanium oxide layers due to the creation of a
transitional layer with the gradually changing composition is proposed. The chemical …
transitional layer with the gradually changing composition is proposed. The chemical …
Управление расходом газов в процессах ионно-лучевого осаждения покрытий на основе оксидов
АП Бурмаков, НН Никифоренко, ВЕ Чёрный - 2001 - elib.bsu.by
Описаны результаты исследования эмиссионного оптического спектра плазмы разряда
ионного источника на базе ускорителя с анодным слоем. Предложены спектральные …
ионного источника на базе ускорителя с анодным слоем. Предложены спектральные …
Контроль процесса магнетронного осаждения пленок TiO2 c помощью малогабаритного спектрометра SL40-2
АП Бурмаков, ВН Кулешов, ВЕ Чёрный - 2003 - elib.bsu.by
Рассмотрены результаты исследования эмиссионного спектра плазмы магнетронного
разряда в процессах нанесения пленок TiO2. Для исследований использован …
разряда в процессах нанесения пленок TiO2. Для исследований использован …