The surface chemistry of the atomic layer deposition of metal thin films

F Zaera - Nanotechnology, 2024 - iopscience.iop.org
In this perspective we discuss the progress made in the mechanistic studies of the surface
chemistry associated with the atomic layer deposition (ALD) of metal films and the …

Développement d'une méthode innovante d'identification de précurseurs ALD pour un matériau-cible: cas du sulfure de gallium

PA Pavard - 2021 - theses.hal.science
L'ALD est un procédé chimique efficace de déposition de couches minces en phase vapeur,
bien que certains matériaux restent encore inaccessibles notamment par un manque de …