S Mouchtouris, G Kokkoris - Plasma Processes and Polymers, 2017 - Wiley Online Library
Α multiscale modeling framework, linking the operating parameters of a low pressure plasma reactor with the surface roughness being formed on the etched substrate, is …
A multiscale computational framework for coupling the multiple length scales in chemical vapor deposition (CVD) processes is implemented for studying the effect of the prevailing …
N Kallikounis, G Kokkoris, N Cheimarios… - Chemical Vapor …, 2014 - Wiley Online Library
The potential of an additional degree of freedom (DOF) in the effort to meet film or deposition rate uniformity along the wafer in CVD processes is investigated. The investigation applies …
Στην παρούσα εργασία μελετάται η ανάπτυξη υμενίων, μέσω της διεργασίας της χημικής απόθεσης από ατμό, σε δισκία με μικρο-τοπογραφία. Το ομοιόμορφο πάχος των υμενίων σε …
N Cheimarios - 2nd ECCOMAS Young Investigators Conference (YIC …, 2013 - hal.science
. Two multiscale computational frameworks are proposed for coupling/linking the co-existing scales in chemical vapor deposition (CVD) processes: From the macro-scale of a CVD …
Η χημική απόθεση από ατμό ΧΑΑ,(chemical vapor deposition-CVD) είναι μια ευρέως χρησιμοποιούμενη μέθοδος για την παραγωγή στερεών λεπτών υμενίων σε ειδικά …